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J-GLOBAL ID：200902086463608494   整理番号：92A0119140

酸化タンタル膜の化学蒸着におけるタンタル源としてのペンタ-ジメチル-アミノ-タンタルの適用

Application of Penta-Di-Methyl-Amino-Tantalum to a Tantalum Source in Chemical Vapor Deposition of Tantalum Oxide Films.

著者 (4件)： TABUCHI T (Nippon Sanso Corp., Kanagawa) ,  SAWADO Y (Nippon Sanso Corp., Kanagawa) ,  UEMATSU K (Nippon Sanso Corp., Kanagawa) ,  KOSHIBA S (Nippon Sanso Corp., Kanagawa)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics. Part 2. Letters  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 2. Letters)
巻： 30  号： 11B  ページ： L1974-L1977  発行年： 1991年11月15日 
JST資料番号： F0599B  ISSN： 0021-4922  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： TaO化学蒸着(CVD)のTa源としてのTa[N(CH<su...

シソーラス用語： 酸化タンタル ,...

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分類 (1件)： 酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (6件)： 酸化 ,  タンタル膜 ,  化学蒸着 ,  タンタル ,  ペンタ ,  ジメチル