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J-GLOBAL ID：200902090902069764   整理番号：92A0256315

二次イオン質量分析計による垂直入射のO₂⁺衝撃でのCr/Ni多層膜の深さ方向分布における界面の深さ方向分解能の著しい向上

Significant improvement in depth resolution of Cr/Ni interfaces by secondary ion mass spectrometry profiling under normal O₂⁺ ion bombardment.

著者 (2件)： KIM K J (Korea Research Inst. Standards and Science, Daejon, KOR) ,  MOON D W (Korea Research Inst. Standards and Science, Daejon, KOR)
資料名： Applied Physics Letters  (Applied Physics Letters)
巻： 60  号： 10  ページ： 1178-1180  発行年： 1992年03月09日 
JST資料番号： H0613A  ISSN： 0003-6951  CODEN： APPLAB  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： SIMSによるCr/Ni多層膜の深さ方向分布の一次イオンビー...

シソーラス用語： クロム ,...

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分類 (3件)： その他の構造決定法  (BK01070L) ,  金属薄膜  (BK14030T) ,  金属,合金の物理分析  (CC03040V)

タイトルに関連する用語 (11件)： 二次イオン ,  質量分析計 ,  垂直入射 ,  衝撃 ,  Cr ,  Ni ,  多層膜 ,  深さ方向 ,  分布 ,  界面 ,  分解能