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J-GLOBAL ID：200902091205851876   整理番号：88A0208294

マグネトロンスパッタリングにより比較的高速,低温で形成したTiNコーティング膜の構造

Structure of TiN coatings deposited at relatively high rates and low temperatures by magnetron sputtering.

著者 (4件)： VALVODA V (Charles Univ., Prague, CSK) ,  KUZEL R JR (Charles Univ., Prague, CSK) ,  CERN<span style=text-decoration:overline>Y ́</span> R (Charles Univ., Prague, CSK) ,  MUSIL J (Inst. Physics, Czechoslovak Academy of Sciences, Prague, CSK)
資料名： Thin Solid Films  (Thin Solid Films)
巻： 156  号： 1  ページ： 53-63  発行年： 1988年01月15日 
JST資料番号： B0899A  ISSN： 0040-6090  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 50~150°Cに保持した鋼上にTiN膜を0.1~0.5μm...

シソーラス用語： 窒化物 ,...

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分類 (2件)： その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A) ,  金属材料へのセラミック被覆  (YC02050V)

タイトルに関連する用語 (4件)： マグネトロンスパッタリング ,  低温 ,  TiN ,  コーティング膜