3準位電子ビームリソグラフィーにおける反応性イオンエッチポリメタクリル酸メチルとポリイミド微結晶の力学的安定性

ORO J A; WOLFE J C

文献

J-GLOBAL ID：200902092232479853 整理番号：83A0440491

3準位電子ビームリソグラフィーにおける反応性イオンエッチポリメタクリル酸メチルとポリイミド微結晶の力学的安定性

Mechanical stability of reactive ion-etched poly (methylmethacrylate) and polyimide microstructures in trilevel electron beam lithography.

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巻： 53 号： 11 Pt 1 ページ： 7379-7384 発行年： 1982年11月
JST資料番号： C0266A ISSN： 0021-8979 CODEN： JAPIAU 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

リソグラフィーで分離層を利用し,ウエハトポグラフィーの平面化...

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固体デバイス製造技術一般

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