低温におけるSi上のγ-Al2O3膜の有機金属分子線エピタクシー

SAWADA K; ISHIDA M; NAKAMURA T; OHTAKE N

文献

J-GLOBAL ID：200902092302099565 整理番号：88A0606599

低温におけるSi上のγ-Al₂O₃膜の有機金属分子線エピタクシー

Metalorganic molecular beam epitaxy of γ-Al₂O₃ films on Si at low growth temperatures.

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巻： 52 号： 20 ページ： 1672-1674 発行年： 1988年05月16日
JST資料番号： H0613A ISSN： 0003-6951 CODEN： APPLAB 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：短報発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

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酸化物薄膜 , 金属-絶縁体-半導体構造【’81~’92】

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