文献

J-GLOBAL ID：200902093970079203   整理番号：92A0684347

エーロゾルおよびプラズマエッチング法によるInPのナノメートルパターン形成

Nanometer patterning of InP using aerosol and plasma etching techniques.

著者 (4件)： WIEDENSOHLER A (Lund Univ., Lund, SWE) ,  HANSSON H-C (Lund Univ., Lund, SWE) ,  MAXIMOV I (Lund Univ., Lund, SWE) ,  SAMUELSON L (Lund Univ., Lund, SWE)
資料名： Applied Physics Letters  (Applied Physics Letters)
巻： 61  号： 7  ページ： 837-839  発行年： 1992年08月17日 
JST資料番号： H0613A  ISSN： 0003-6951  CODEN： APPLAB  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： エーロゾル法によってInP基板上にAg粒子を付着後,CH<s...

シソーラス用語： リン化インジウム ,...

   続きはJDreamIII（有料）にて  {{ this.onShowAbsJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=92A0684347&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=H0613A") }}

分類 (2件)： 半導体の表面構造  (BK15030A) ,  試料技術  (BA02070O)

タイトルに関連する用語 (3件)： エーロゾル ,  プラズマエッチング ,  InP