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J-GLOBAL ID：200902098528862880   整理番号：93A0007211

減圧MOCVD法によるCuAlSe₂の成長 (II) 成長条件と構造評価

LP-MOCVD growth of CuAlSe₂. (II)-Grwoth condition and structual study.

著者 (9件)： 秩父重英 (慶応大) ,  白方祥 (愛媛大) ,  岩井昭佳 (慶応大) ,  須藤亮 (慶応大) ,  内田盟 (慶応大) ,  原田佳幸 (慶応大) ,  樋口博文 (ベンテック) ,  松本智 (慶応大) ,  磯村滋宏 (愛媛大)
資料名： 応用物理学会学術講演会講演予稿集  (Extended Abstracts. Annual Meeting. Japan Society of Applied Physics)
巻： 53rd  号： 3  ページ： 1097  発行年： 1992年09月 
JST資料番号： Y0055A  資料種別： 会議録 (C)
発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

タイトルに関連する用語 (5件)： 減圧 ,  MOCVD ,  成長 ,  成長条件 ,  構造評価