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J-GLOBAL ID：200902099100267843   整理番号：89A0087230

スパッタ型ECRマイクロ波プラズマの特徴と薄膜形成への応用

Characteristics for sputtering type electron cyclotron resonance microwave plasma and its applications to thin film preparations.

著者 (2件)： 松岡茂登 (NTT 光エレクトロニクス研) ,  小野堅一 (NTT 光エレクトロニクス研)
資料名： 応用物理  (JSAP International)
巻： 57  号： 9  ページ： 1301-1313  発行年： 1988年09月 
JST資料番号： F0252A  ISSN： 0369-8009  CODEN： OYBSA  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 文献レビュー  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 電子サイクロトロン共鳴(ECR)を利用したマイクロ波プラズマ...

シソーラス用語： スパッタリング ,...

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分類 (2件)： プラズマ応用  (BJ02110K) ,  薄膜成長技術・装置  (BK14020I)

引用文献 (29件)：

• 1) Thin Film Processes, ed. J. L. Vossen and W. Kern (Academic Press, New York, 1978).
• 2) Deposition Technology for Film and Coat-ings-Development and Applications, ed. R. F. Bunshah et al. (Noyes, Park Ridge, 1982).
• 3) Handbook of Thin Film Technology, ed. L. I. Maissel and R. Glang (McGraw-Hill, New York, 1970).
• 4) 半導体プラズマプロセス技術,菅野卓雄編著(産業図書, 1980).
• 5) S. Matsuo, M. Kiuchi and T. Ono: Proc. 10th Symp. Ion Source and Ion-AssistedTechnol-ogy, Tokyo, 1986 (京都大学イオン工学実験施設, 1986) p. 243.

タイトルに関連する用語 (4件)： スパッタ ,  マイクロ波プラズマ ,  薄膜形成 ,  応用