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J-GLOBAL ID：200902099922844060   整理番号：91A0233001

多層被覆光学系による14nm光の画像の縮小 0.1μm以下のパターン書込み

Reduction imaging at 14nm using multilayer-coated optics: Printing of features smaller than 0.1μm.

著者 (9件)： BJORKHOLM J E (AT&T Bell Lab., New Jersey) ,  BOKOR J (AT&T Bell Lab., New Jersey) ,  EICHNER L (AT&T Bell Lab., New Jersey) ,  FREEMAN R R (AT&T Bell Lab., New Jersey) ,  GREGUS J (AT&T Bell Lab., New Jersey) ,  JEWELL T E (AT&T Bell Lab., New Jersey) ,  MANSFIELD W M (AT&T Bell Lab., New Jersey) ,  WOOD O R II (AT&T Bell Lab., New Jersey) ,  BRUNING J H (GCA Corp., New York)
資料名： Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures  (Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures)
巻： 8  号： 6  ページ： 1509-1513  発行年： 1990年11月 
JST資料番号： E0974A  ISSN： 1071-1023  CODEN： JVTBD9  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： Schwarzschildの対物反射鏡を用いて14nmの光で...

シソーラス用語： リソグラフィー ,...
準シソーラス用語： Schwarzschield対物鏡

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分類 (2件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  X線技術  (BA02060D)

タイトルに関連する用語 (4件)： 多層被覆 ,  光学系 ,  縮小 ,  書込み