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J-GLOBAL ID：200902100020580220   整理番号：96A0318146

コマンド面 15 シリカ表面のけい皮酸残基による液晶配向の光制御

Command surfaces. 15. Photoregulation of liquid crystal alignment by cinnamoyl residues on a silica surface.
著者 (3件)：
TOMITA H

TOMITA H について

(Tokyo Inst. Technol., Yokohama, JPN)

Tokyo Inst. Technol., Yokohama, JPN について

, 
KUDO K

KUDO K について

(Tokyo Inst. Technol., Yokohama, JPN)

Tokyo Inst. Technol., Yokohama, JPN について

, 
ICHIMURA K

ICHIMURA K について

(Tokyo Inst. Technol., Yokohama, JPN)

Tokyo Inst. Technol., Yokohama, JPN について


資料名：
Liquid Crystals  (Liquid Crystals)

Liquid Crystals について


巻： 20  号： 2  ページ： 171-176  発行年： 1996年02月 
JST資料番号： E0179C  ISSN： 0267-8292  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)
抄録/ポイント：
抄録/ポイント
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トリエトキシシリル基をortho位置に置換したけい皮酸エステ...
シソーラス用語：
シソーラス用語/準シソーラス用語
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光制御

光制御 について

,...
準シソーラス用語：
シソーラス用語/準シソーラス用語
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シリカ

シリカ について

,...
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分類 (2件)：
分類
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ネマチック相 
(BK03020W)

ネマチック相 について

,  光化学反応 
(CB08020F)

光化学反応 について

物質索引 (2件)：
物質索引
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N-[3-(トリエトキシシリル)プロピル]-11-[2-[(E)-2-[(ヘキシルオキシ)カルボニル]エテニル]-5-(ヘキシルオキシ)フェノキシ]ウンデカンアミド

N-[3-(トリエトキシシリル)プロピル]-11-[2-[(E)-2-[(ヘキシルオキシ)カルボニル]エテニル]-5-(ヘキシルオキシ)フェノキシ]ウンデカンアミド について

, 
11-[2-[(E)-2-[(ヘキシルオキシ)カルボニル]エテニル]-5-(ヘキシルオキシ)フェノキシ]ウンデカン酸メチル

11-[2-[(E)-2-[(ヘキシルオキシ)カルボニル]エテニル]-5-(ヘキシルオキシ)フェノキシ]ウンデカン酸メチル について

タイトルに関連する用語 (6件)：
タイトルに関連する用語
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コマンド

コマンド について

, 
シリカ

シリカ について

, 
けい皮酸

けい皮酸 について

, 
残基

残基 について

, 
液晶配向

液晶配向 について

, 
光制御

光制御 について


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