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J-GLOBAL ID：200902100516479970   整理番号：99A0042857

ポリ(ノルボルネン-alt-マレイン酸無水物)誘導体に基づく193nmの単層レジスト

193nm Single Layer Resist Based on Poly(norbornene-alt-maleic anhydride) Derivatives. The Interplay of the Chemical Structure of Components and Lithographic Properties.

著者 (7件)： HOULIHAN F M (Bell Lab., NJ) ,  TIMKO A (Bell Lab., NJ) ,  HUTTON R (Bell Lab., NJ) ,  CIRELLI R (Bell Lab., NJ) ,  KOMETANI J M (Bell Lab., NJ) ,  REICHMANIS E (Bell Lab., NJ) ,  NALAMASU O (Bell Lab., NJ)
資料名： ACS Symposium Series (American Chemical Society)  (ACS Symposium Series (American Chemical Society))
号： 706  ページ： 191-207  発行年： 1998年 
JST資料番号： H0588B  ISSN： 0097-6156  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 標題共重合体に第三,四成分としてアクリル酸とアクリル酸t-ブ...

シソーラス用語： *レーザリソグラフィー ,...
準シソーラス用語： 橋架け化合物 ,...

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分類 (2件)： その他の高分子材料  (YH07150C) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

物質索引 (4件)： ノルボルネン ,  マレイン酸無水物 ,  アクリル酸 ,  アクリル酸ブチル

タイトルに関連する用語 (6件)： ノルボルネン ,  ALT ,  マレイン酸無水物 ,  誘導体 ,  単層 ,  レジスト