テトラエトキシシランを用いたSiO<sub>2</sub>膜におけるプラズマ支援化学気相蒸着の分解過程

OKIMURA K; MAEDA N

文献

J-GLOBAL ID：200902100635961216 整理番号：99A0093149

テトラエトキシシランを用いたSiO₂膜におけるプラズマ支援化学気相蒸着の分解過程

Dissociation processes in plasma enhanced chemical vapor deposition of SiO₂ films using tetraethoxysilane.

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巻： 16 号： 6 ページ： 3157-3163 発行年： 1998年11月
JST資料番号： C0789B ISSN： 0734-2101 CODEN： JVTAD6 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

質量分光法により標記におけるTEOSの分解過程を調べた。TE...

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酸化物薄膜

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テトラエトキシシランを用いたSiO2膜におけるプラズマ支援化学気相蒸着の分解過程

テトラエトキシシランを用いたSiO₂膜におけるプラズマ支援化学気相蒸着の分解過程