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J-GLOBAL ID：200902101191470721   整理番号：99A0609747

リソグラフィーにとってロードマップ上か,ロードマップ外か,ロードマップの範囲外か

On the Roadmap, Off the Roadmap, Beyond the Roadmap for Lithography.

著者 (1件)： SASAGO M (Matsushita Electronics Corp., Kyoto, JPN)
資料名： Journal of Photopolymer Science and Technology  (Journal of Photopolymer Science and Technology)
巻： 12  号： 4  ページ： 585-590  発行年： 1999年 
JST資料番号： L0202A  ISSN： 0914-9244  CODEN： JSTEEW  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 文献レビュー  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 有機半導体工業において長期にわたって発展をとげてきた光学的リ...

シソーラス用語： *フォトリソグラフィー ,...

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分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

引用文献 (7件)：

• 1). M. B. Heritage, J. Vac. Sci. Technol., 12, 1317, p.1135, (1975).
• 2). D. L. Spears, H.I. Simth, Electron. Lett., p.102, (1972).
• 3). Y. Sakitani et al, Proc. EIPB'92, (1992).
• 4). L.R. Harriott, et al, J. Vac. Sci. Technol. B14(6), 3825, (1996).
• 5). T. Hisatsugu, Proc. 1st Int. Workshop on Future Generation Lithography. p.3(1997).

タイトルに関連する用語 (2件)： リソグラフィー ,  ロードマップ