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J-GLOBAL ID：200902101516140626   整理番号：97A0963912

エチレンのエポキシ化に対するCu,AgとAu表面上のO₂吸着 ディップアドクラスタ模型研究

Activation of O₂ on Cu,Ag, and Au surfaces for the epoxidation of ethylene: dipped adcluster model study.

著者 (4件)： NAKATSUJI H (Kyoto Univ., Kyoto, JPN) ,  HU Z-M (Kyoto Univ., Kyoto, JPN) ,  NAKAI H (Kyoto Univ., Kyoto, JPN) ,  IKEDA K (Kyoto Univ., Kyoto, JPN)
資料名： Surface Science  (Surface Science)
巻： 387  号： 1/3  ページ： 328-341  発行年： 1997年10月08日 
JST資料番号： C0129B  ISSN： 0039-6028  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： エチレンの部分酸化に対してAgだけが有効な触媒である理由を明...

シソーラス用語： 銀 ,...
準シソーラス用語： エチレン ,...

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分類 (1件)： 吸着の電子論  (CB12042Y)

物質索引 (2件)： エチレン ,  エチレンオキシド

タイトルに関連する用語 (9件)： エチレン ,  エポキシ化 ,  Cu ,  Ag ,  Au ,  O2 ,  吸着 ,  模型 ,  研究