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J-GLOBAL ID：200902101557893353   整理番号：01A0386880

線形走査およびパターン生成のための大偏向マイクロメカニカル反射鏡

Large deflection micromechanical scanning mirrors for linear scans and pattern generation.

著者 (7件)： SCHENK H (Fraunhofer Inst. for Microelectronics Circuits and Systems, Dresden, DEU) ,  DUERR P (Fraunhofer Inst. for Microelectronics Circuits and Systems, Dresden, DEU) ,  HAASE T (Fraunhofer Inst. for Microelectronics Circuits and Systems, Dresden, DEU) ,  KUNZE D (Fraunhofer Inst. for Microelectronics Circuits and Systems, Dresden, DEU) ,  SOBE U (Fraunhofer Inst. for Microelectronics Circuits and Systems, Dresden, DEU) ,  LAKNER H (Fraunhofer Inst. for Microelectronics Circuits and Systems, Dresden, DEU) ,  KUECK H (Univ. Stuttgart, Stuttgart, DEU)
資料名： IEEE Journal of Selected Topics in Quantum Electronics  (IEEE Journal of Selected Topics in Quantum Electronics)
巻： 6  号： 5  ページ： 715-722  発行年： 2000年09月 
JST資料番号： W0734A  ISSN： 1077-260X  CODEN： IJSQEN  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 光の一次元および二次元偏向のため,静電的駆動のけい素マイクロ...

シソーラス用語： *反射鏡 ,...
準シソーラス用語： マイクロメカニカル反射鏡

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分類 (1件)： 光デバイス一般  (BD06010L)

タイトルに関連する用語 (5件)： 線形 ,  走査 ,  パターン生成 ,  偏向 ,  反射鏡