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J-GLOBAL ID：200902101759236770   整理番号：98A0932018

マグネトロンスパッタリングによる非晶質窒化炭素の作製に及ぼす酸素ガス添加と基板冷却の効果

Effects of Oxygen Gas Addition and Substrate Cooling on Preparation of Amorphous Carbon Nitride Films by Magnetron Sputtering.

著者 (3件)： YOKOMICHI H (Toyama Prefectural Univ., Toyama, JPN) ,  SAKIMA H (Toyama Prefectural Univ., Toyama, JPN) ,  MASUDA A (Japan Advanced Inst. Sci. and Technol., Ishikawa, JPN)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻： 37  号： 9A  ページ： 4722-4725  発行年： 1998年09月 
JST資料番号： G0520B  ISSN： 0021-4922  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 窒素および酸素混合ガス中のマグネトロンスパッタリングによって...

シソーラス用語： スパッタ蒸着 ,...

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分類 (1件)： 半導体薄膜  (BK14040E)

引用文献 (14件)：

• 1) A. Y. Liu and M. L. Cohen: Science 254 (1989) 841.
• 2) A. Y. Liu and M. L. Cohen: Phys. Rev. B 41 (1990) 10727
• 3) C. Niu, Y. Z. Lu and C. M. Lieber: Science 261 (1993) 334.
• 4) K. M. Yu, M. L. Cohen, E. E. Haller, W. L. Hansen, A. Y. Liu and I. C. Wu: Phys. Rev. B 49 (1994) 5034
• 5) Y. Chen, L. Guo and E. G. Wang: Philos. Mag. Lett. 75 (1997) 155.

タイトルに関連する用語 (5件)： マグネトロンスパッタリング ,  非晶質 ,  窒化炭素 ,  作製 ,  酸素ガス