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J-GLOBAL ID：200902102152318927   整理番号：94A0868326

ビスマス-ストロンチウム-カルシウム-銅酸化物薄膜における欠陥形成のミクロ分析研究

Microanalytical Study of Defect Formation in Thin Bismuth Strontium Calcium Copper Oxide Films.

著者 (9件)： HOWELL R H (Lawrence Livermore National Lab., CA) ,  CHAIKEN A (Lawrence Livermore National Lab., CA) ,  MUSKET R G (Lawrence Livermore National Lab., CA) ,  WALL M A (Lawrence Livermore National Lab., CA) ,  BALOOCH M (Lawrence Livermore National Lab., CA) ,  PHINNEY D (Lawrence Livermore National Lab., CA) ,  ECKSTEIN J N (Varian Assoc., CA) ,  BOZOVIC I (Varian Assoc., CA) ,  VIRSHUP G F (Varian Assoc., CA)
資料名： Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)
巻： 2158  ページ： 182-190  発行年： 1994年 
JST資料番号： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 標記酸化物(BSCOO)薄膜及びBSCOO/絶縁体/BSCO...

シソーラス用語： ビスマス化合物 ,...

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分類 (2件)： 酸化物系超伝導体の物性  (BM04023I) ,  酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (8件)： ビスマス ,  ストロンチウム ,  カルシウム ,  銅 ,  酸化物薄膜 ,  欠陥形成 ,  ミクロ分析 ,  研究