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J-GLOBAL ID：200902102288182450   整理番号：03A0410707

金属負イオン注入による酸化膜中でのナノ粒子の形成と光反射特性による粒子状態の評価

著者 (6件)： 辻博司 (京大 大学院工学研究科) ,  洗暢俊 (シャープ 基盤技研) ,  松本卓也 (京大 大学院工学研究科) ,  菅原弘允 (京大 大学院工学研究科) ,  後藤康仁 (京大 大学院工学研究科) ,  石川順三 (京大 大学院工学研究科)
資料名： 21世紀連合シンポジウム論文集
巻： 1st  ページ： 461-464  発行年： 2002年11月23日 
JST資料番号： L2435B  ISSN： 1347-9717  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 二酸化けい素薄膜中のナノ粒子は,単電子メモリ開発の観点から注...

シソーラス用語： *金属イオン ,...

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分類 (2件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  記憶装置  (JC04060F)

タイトルに関連する用語 (6件)： 負イオン ,  注入 ,  酸化膜 ,  ナノ粒子 ,  反射特性 ,  評価