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J-GLOBAL ID：200902102638339063   整理番号：02A0270939

複合ステージを用いた移動マスク深部X線リソグラフィ(M²DXL)による三次元製造

3D Fabrication by Moving Mask Deep X-Ray Lithography (M²DXL) with Multiple Stages.

著者 (5件)： TABATA O (Ritsumeikan Univ., Shiga, JPN) ,  MATSUZUKA N (Ritsumeikan Univ., Shiga, JPN) ,  YAMAJI T (Ritsumeikan Univ., Shiga, JPN) ,  UEMURA S (Ritsumeikan Univ., Shiga, JPN) ,  YAMAMOTO K (Minolta Co. Ltd)
資料名： Technical Digest. IEEE Micro Electro Mechanical Systems  (Technical Digest. IEEE Micro Electro Mechanical Systems)
巻： 15th  ページ： 180-183  発行年： 2002年 
JST資料番号： W0377A  ISSN： 1084-6999  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： シンクロトロン放射深部X線リソグラフィによる三次元微小構造製...

シソーラス用語： *X線リソグラフィー ,...
準シソーラス用語： 複合ステージ ,...

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分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (4件)： ステージ ,  マスク ,  深部 ,  X線リソグラフィ