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J-GLOBAL ID：200902104733239710   整理番号：96A0604088

パルスマグネトロンスパッタリングによって反応蒸着したAl₂O₃層の組織と性質に及ぼす基板温度の影響

Effect of the substrate temperature on the structure and properties of Al₂O₃ layers reactively deposited by pulsed magnetron sputtering.

著者 (4件)： ZYWITZKI O (Fraunhofer-Inst. Elektronenstrahl- und Plasmatechnik, Dresden, DEU) ,  HOETZSCH G (Fraunhofer-Inst. Elektronenstrahl- und Plasmatechnik, Dresden, DEU) ,  FIETZKE F (Fraunhofer-Inst. Elektronenstrahl- und Plasmatechnik, Dresden, DEU) ,  GOEDICKE K (Fraunhofer-Inst. Elektronenstrahl- und Plasmatechnik, Dresden, DEU)
資料名： Surface & Coatings Technology  (Surface & Coatings Technology)
巻： 82  号： 1/2  ページ： 169-175  発行年： 1996年07月 
JST資料番号： D0205C  ISSN： 0257-8972  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 480°Cではγ-Al₂O<sub>3<...

シソーラス用語： マグネトロンスパッタリング ,...

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分類 (2件)： 気相めっき  (WC08022K) ,  金属材料へのセラミック被覆  (YC02050V)

タイトルに関連する用語 (7件)： パルス ,  マグネトロンスパッタリング ,  蒸着 ,  Al2O3 ,  組織 ,  性質 ,  基板温度