プラズマソースイオン注入法によるTiO<sub>2</sub>薄膜の作製

畑田留理子; 馬場恒明

文献

J-GLOBAL ID：200902104996953957 整理番号：99A1015059

プラズマソースイオン注入法によるTiO₂薄膜の作製

Preparation of TiO₂ Thin Films by Plasma Source Ion Implantation.

出版者サイト {{ this.onShowPLink() }} 複写サービスで全文入手 {{ this.onShowCLink("http://jdream3.com/copy/?sid=JGLOBAL&noSystem=1&documentNoArray=99A1015059&COPY=1") }}
高度な検索・分析はJDreamⅢで {{ this.onShowJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=99A1015059&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=G0441B") }}

著者 (2件)： ,
資料名：
巻： 50 号： 11 ページ： 1019-1020 発行年： 1999年11月01日
JST資料番号： G0441B ISSN： 0915-1869 CODEN： HYGIEX 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：短報発行国：日本 (JPN) 言語：日本語 (JA)

チタンテトライソプロポキシド(TTIP)を原料として,プラズ...

,...

続きはJDreamIII（有料）にて {{ this.onShowAbsJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=99A1015059&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=G0441B") }}

酸化物薄膜

引用文献 (5件)：

CONRAD, J. R. J. Appl. Phys. 1987, 62, 4591
BABA, K. Mater. Chem. and Phys. 1998, 54, 135
垰甲博史. 用水と排水. 1996, 38, 290
KATO, K. Thin Solid Films. 1997, 298, 76
BEEMAN, D. Phys. Rev. 1984, B30, 870

, , , ,

前のページに戻る

プラズマソースイオン注入法によるTiO2薄膜の作製

プラズマソースイオン注入法によるTiO₂薄膜の作製