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J-GLOBAL ID：200902107332749383   整理番号：01A0542587

有限差分時間領域法を使用した近接場フォトリソグラフィーのシミュレーション

Simulation of near-field photolithography using the finite-difference time-domain method.

著者 (6件)： TANAKA S (Univ. Tokyo, Tokyo, JPN) ,  NAKAO M (Univ. Tokyo, Tokyo, JPN) ,  UMEDA M (Hitachi Ltd., Tokyo, JPN) ,  ITO K ,  NAKAMURA S (Hitachi Ltd., Ibaragi, JPN) ,  HATAMURA Y (Univ. Tokyo, Tokyo, JPN)
資料名： Journal of Applied Physics  (Journal of Applied Physics)
巻： 89  号： 7  ページ： 3547-3553  発行年： 2001年04月01日 
JST資料番号： C0266A  ISSN： 0021-8979  CODEN： JAPIAU  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 内部全反射条件下で透明型を照明するとエバネセント光が発生する...

シソーラス用語： *全反射 ,...
準シソーラス用語： 有限差分法

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分類 (2件)： 光の散乱,回折,干渉  (BD03030M) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (4件)： 有限差分時間領域法 ,  近接場 ,  フォトリソグラフィー ,  シミュレーション