光学被膜材質としてのプラズマ強化化学蒸着によって生成されたアモルファスシリコンとアモルファス窒化けい素薄膜

TSAI R-Y; KUO L-C; HO F C

文献

J-GLOBAL ID：200902108091206339 整理番号：93A0937250

光学被膜材質としてのプラズマ強化化学蒸着によって生成されたアモルファスシリコンとアモルファス窒化けい素薄膜

Amorphous silicon and amorphous silicon nitride films prepared by a plasma-enhanced chemical vapor deposition process as optical coating materials.

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巻： 32 号： 28 ページ： 5561-5566 発行年： 1993年10月01日
JST資料番号： B0026B ISSN： 1559-128X CODEN： APOPAI 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

近赤外領域の光干渉フィルタの設計と製作に適した耐久性のある,...

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光デバイス一般

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