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J-GLOBAL ID：200902110686297154   整理番号：96A1004620

ポリカルボジイミドから誘導した炭素膜の構造

Structure of carbon films derived from polycarbodiimide.
著者 (7件)：
SHIOYA M

SHIOYA M について

(Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN)

Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN について

, 
NAKATANI M

NAKATANI M について

(Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN)

Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN について

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KITANO H

KITANO H について

(Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN)

Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN について

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TAKAKU A

TAKAKU A について

(Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN)

Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN について

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ARAKI Y

ARAKI Y について

(Nissinbo Ind., Inc., Tokyo, JPN)

Nissinbo Ind., Inc., Tokyo, JPN について

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TAKAHASHI Y

TAKAHASHI Y について

(Nissinbo Ind., Inc., Tokyo, JPN)

Nissinbo Ind., Inc., Tokyo, JPN について

, 
SUZUKI T

SUZUKI T について

(Nissinbo Ind., Inc., Tokyo, JPN)

Nissinbo Ind., Inc., Tokyo, JPN について


資料名：
Carbon  (Carbon)

Carbon について


巻： 34  号： 10  ページ： 1229-1238  発行年： 1996年 
JST資料番号： H0270B  ISSN： 0008-6223  CODEN： CRBNA  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)
抄録/ポイント：
抄録/ポイント
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標記の構造を広角及び小角X線散乱法を用いて炭化温度と関連して...
シソーラス用語：
シソーラス用語/準シソーラス用語
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小角X線散乱

小角X線散乱 について

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準シソーラス用語：
シソーラス用語/準シソーラス用語
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カルボジイミド

カルボジイミド について


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分類 (1件)：
分類
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炭素とその化合物 
(YB02060D)

炭素とその化合物 について

タイトルに関連する用語 (3件)：
タイトルに関連する用語
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ポリカルボジイミド

ポリカルボジイミド について

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誘導

誘導 について

, 
炭素膜

炭素膜 について


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