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J-GLOBAL ID：200902110930102310   整理番号：02A0853746

UHF SiH₄/H₂プラズマを用いた微結晶シリコン薄膜の初期成長過程

著者 (5件)： 松谷美穂 (名古屋大 工) ,  堀直樹 (名古屋大 工) ,  堀勝 (名古屋大 工) ,  後藤俊夫 (名古屋大 工) ,  塚田勉 (アネルバ)
資料名： 応用物理学会学術講演会講演予稿集  (Extended Abstracts. Annual Meeting. Japan Society of Applied Physics)
巻： 63rd  号： 1  ページ： 419  発行年： 2002年09月24日 
JST資料番号： Y0055A  資料種別： 会議録 (C)
発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

タイトルに関連する用語 (8件)： UHF ,  SiH4 ,  H2 ,  プラズマ ,  微結晶 ,  シリコン薄膜 ,  初期 ,  成長過程