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J-GLOBAL ID：200902111113257650   整理番号：02A0306926

エッチしたシリコンおよび炭素ナノチューブ原子間力顕微鏡プローブの摩耗特性の比較

Comparison of wear characteristics of etched-silicon and carbon nanotube atomic-force microscopy probes.

著者 (6件)： LARSEN T (PIEZOMAX Technol., Inc., Wisconsin) ,  MOLONI K (PIEZOMAX Technol., Inc., Wisconsin) ,  FLACK F (Univ. Wisconsin-Madison, Wisconsin) ,  ERIKSSON M A (Univ. Wisconsin-Madison, Wisconsin) ,  LAGALLY M G (Univ. Wisconsin-Madison, Wisconsin) ,  BLACK C T (IBM T.J. Watson Res. Center, New York)
資料名： Applied Physics Letters  (Applied Physics Letters)
巻： 80  号： 11  ページ： 1996-1998  発行年： 2002年03月18日 
JST資料番号： H0613A  ISSN： 0003-6951  CODEN： APPLAB  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： エッチしたSiおよび炭素ナノチューブのプローブの分解能と摩耗...

シソーラス用語： *ケイ素 ,...

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分類 (1件)： 電子顕微鏡,イオン顕微鏡  (BD02050B)

タイトルに関連する用語 (6件)： エッチ ,  シリコン ,  炭素ナノチューブ ,  原子間力顕微鏡 ,  プローブ ,  摩耗特性