先進のメタライゼーション用のt-ブチルイミドトリス(ジメチルアミド)タンタルによる窒化タンタルの有機金属化学蒸着

TSAI M H; SUN S C; CHIU H T; TSAI C E; CHUANG S H

文献

J-GLOBAL ID：200902111405848714 整理番号：95A0762100

先進のメタライゼーション用のt-ブチルイミドトリス(ジメチルアミド)タンタルによる窒化タンタルの有機金属化学蒸着

Metalorganic chemical vapor deposition of tantalum nitride by tertbutylimidotris(diethylamido)tantalum for advanced metallization.

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資料名：
巻： 67 号： 8 ページ： 1128-1130 発行年： 1995年08月21日
JST資料番号： H0613A ISSN： 0003-6951 CODEN： APPLAB 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：短報発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

新しい前駆体であるt-ブチルイミドトリス(ジメチルアミド)タ...

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金属薄膜

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