文献
J-GLOBAL ID：200902111481326212   整理番号：00A0908575

New Materials for 157nm Photoresists: Characterization and Properties.

著者 (9件)：
CRAWFORD M K

CRAWFORD M K について

(DuPont Central Res. & Dev., DE)

DuPont Central Res. & Dev., DE について

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FEIRING A E

FEIRING A E について

(DuPont Central Res. & Dev., DE)

DuPont Central Res. & Dev., DE について

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FELDMAN J

FELDMAN J について

(DuPont Central Res. & Dev., DE)

DuPont Central Res. & Dev., DE について

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PERIYASAMY M

PERIYASAMY M について

(DuPont iTechnol., DE)

DuPont iTechnol., DE について

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SCHADT F L III

SCHADT F L III について

(DuPont iTechnol., DE)

DuPont iTechnol., DE について

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KUNZ R R

KUNZ R R について

(MIT Lincoln Lab., MA)

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RAO V

RAO V について

(Intel Corp., CA)

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LIAO L

LIAO L について

(Intel Corp., CA)

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HOLL S M

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(Intel Corp., CA)

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資料名：
Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)

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巻： 3999  号： Pt.1  ページ： 357-364  発行年： 2000年 
JST資料番号： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  資料種別： 会議録 (C)
発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

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