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J-GLOBAL ID:200902111793826751   整理番号:00A1055813

ゲート絶縁代替用の高熱安定けい酸ジルコニウム超薄膜

Ultrathin zirconium silicate film with good thermal stability for alternative gate dielectric application.
著者 (8件):
資料名:
巻: 77  号: 11  ページ: 1704-1706  発行年: 2000年09月11日 
JST資料番号: H0613A  ISSN: 0003-6951  CODEN: APPLAB  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 短報  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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Si基板上に同時反応性スパッタリングにより高誘電率ZrSi<...
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分類 (2件):
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
酸化物薄膜  ,  トランジスタ 

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