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J-GLOBAL ID:200902112076575449   整理番号:96A0973521

固体原料MOCVD法によるニオブ酸リチウム薄膜のエピタキシャル成長

Epitaxial growth of lithium niobate thin films by the solid source MOCVD method.
著者 (1件):
資料名:
巻: 166  号: 1/4  ページ: 1-16  発行年: 1996年09月 
JST資料番号: B0942A  ISSN: 0022-0248  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 文献レビュー  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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その他の無機化合物の薄膜 
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