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J-GLOBAL ID：200902112998879609   整理番号：94A0039589

極低エネルギーイオンビームを用いた薄膜形成

Thin film formation by very-low-energy ion beams.
著者 (1件)：
石川順三

石川順三 について

(京大 工)

京大 工 について


資料名：
応用物理  (JSAP International)

応用物理 について


巻： 62  号： 12  ページ： 1180-1188  発行年： 1993年12月 
JST資料番号： F0252A  ISSN： 0369-8009  CODEN： OYBSA  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 文献レビュー  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)
抄録/ポイント：
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物質原子間の結合エネルギーより少し大きな運動エネルギーを持つ...
シソーラス用語：
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イオンビーム蒸着

イオンビーム蒸着 について

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黒鉛

黒鉛 について

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分類 (1件)：
分類
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薄膜成長技術・装置 
(BK14020I)

薄膜成長技術・装置 について

引用文献 (23件)：
  • ITOH, T. Ion Beam Assisted Film Growth. 1989
  • 石川順三. 真空. 1988, 31, 889
  • 石川順三. 第1回粒子線の先端的応用技術に関するワークショップ論文集 BEAMS1990. 1990, 1
  • ISHIKAWA, J. Proc. 1st Int. Symp. Sputtering & Plasma Processes ISSP91, Tokyo. 1991, 85
  • 石川順三. 第1回粒子線の先端的応用技術に関するワークショップ論文集 BEAMS1993. 1993, 1
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タイトルに関連する用語 (3件)：
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ビーム

ビーム について

, 
薄膜形成

薄膜形成 について


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