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J-GLOBAL ID：200902017047166499   整理番号：89A0222405

低エネルギーイオンビーム蒸着による薄膜作製技術

Thin film preparation technology by low energy ion beam deposition.

著者 (1件)： 石川順三 (京大 工)
資料名： 真空  (Journal of the Vacuum Society of Japan)
巻： 31  号： 11  ページ： 889-898  発行年： 1988年11月 
JST資料番号： G0194A  ISSN： 0559-8516  CODEN： SHINA  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： イオンビーム蒸着を行うためのイオンビーム形成技術について述べ...

シソーラス用語： イオンビーム蒸着 ,...

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分類 (2件)： 薄膜成長技術・装置  (BK14020I) ,  電子ビーム・イオンビームの応用  (BD02070X)

引用文献 (10件)：

• 1) T. Takagi : Thin Solid Films, 92 (1982) 1.
• 2) T. Takagi : J. Vac. Sci. Technol., A2, 2 (1984) 382.
• 3) 高木俊宜 : 応用物理, 55, 8 (1986) 746.
• 4) J. Ishikawa, H. Takaoka, K. Fujime and T. Takagi : Proc. 6th Intern. Conf. on Ion & Plasma Assisted Techniques, Brighton, 1987 (CEP Consultants Ltd., Edinburgh, 1987) p. 33.
• 5) H. Takaoka, J. Ishikawa and T. Takagi : Thin Solid Films, 157 (1988) 143.

タイトルに関連する用語 (3件)： 低エネルギー ,  イオンビーム蒸着 ,  薄膜作製