分子線エピタキシーにより成長させた巨大磁気抵抗磁気トンネル接合

O’DONNELL J; ANDRUS A E; OH S; COLLA E V; ECKSTEIN J N

文献

J-GLOBAL ID：200902113679694848 整理番号：00A0437163

分子線エピタキシーにより成長させた巨大磁気抵抗磁気トンネル接合

Colossal magnetoresistance magnetic tunnel junctions grown by molecular-beam epitaxy.

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巻： 76 号： 14 ページ： 1914-1916 発行年： 2000年04月03日
JST資料番号： H0613A ISSN： 0003-6951 CODEN： APPLAB 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：短報発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

標題法を用い,「巨大」磁気抵抗材料La<sub>1-x</s...

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その他の接合 , 酸化物薄膜

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