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J-GLOBAL ID:200902113756492030   整理番号:02A0687199

ZnO:AlターゲットとCo,Mn及びCrで汚染されたZnターゲットの同時スパッタリングにより堆積したZnO:Al膜の膜特性

Film properties of ZnO:Al films deposited by co-sputtering of ZnO:Al and contaminated Zn targets with Co, Mn and Cr.
著者 (5件):
資料名:
巻: 66  号: 3/4  ページ: 511-515  発行年: 2002年08月19日 
JST資料番号: E0347A  ISSN: 0042-207X  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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分類 (3件):
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酸化物薄膜  ,  半導体の格子欠陥  ,  半導体結晶の電気伝導 

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