文献

J-GLOBAL ID：200902114469677394   整理番号：01A0118310

単分散ポリスチレン膜の表面緩和過程のレオロジー解析

Rheological Analysis of Surface Relaxation Process of Monodisperse Polystyrene Films.

著者 (3件)： TANAKA K (Kyushu Univ., Fukuoka, JPN) ,  TAKAHARA A (Kyushu Univ., Fukuoka, JPN) ,  KAJIYAMA T (Kyushu Univ., Fukuoka, JPN)
資料名： Macromolecules  (Macromolecules)
巻： 33  号： 20  ページ： 7588-7593  発行年： 2000年10月03日 
JST資料番号： B0952A  ISSN： 0024-9297  CODEN： MAMOBX  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： アニオン重合で得た両末端がs-Bu及びH基の単分散PSをシリ...

シソーラス用語： ポリスチレン ,...

   続きはJDreamIII（有料）にて  {{ this.onShowAbsJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=01A0118310&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=B0952A") }}

分類 (1件)： 高分子の立体構造  (CG02031G)

物質索引 (1件)： スチレン

タイトルに関連する用語 (5件)： 単分散 ,  ポリスチレン ,  緩和過程 ,  レオロジー ,  解析