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J-GLOBAL ID：200902114577429887   整理番号：96A0613997

ArF液相シリル化法での拡散速度の制御

Control of Diffusion Kinetics in ArF Liquid-Phase Silylation Process.

著者 (2件)： MATSUO T (Matsushita Electic Ind., Co., Ltd., Osaka, JPN) ,  ENDO M (Matsushita Electic Ind., Co., Ltd., Osaka, JPN)
資料名： Journal of Photopolymer Science and Technology  (Journal of Photopolymer Science and Technology)
巻： 9  号： 3  ページ： 523-531  発行年： 1996年 
JST資料番号： L0202A  ISSN： 0914-9244  CODEN： JSTEEW  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ArF液相シリル化法において,拡散速度及びそのシリル化性能に...

シソーラス用語： 回路パターン形成 ,...
準シソーラス用語： 光橋架け ,...

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分類 (2件)： その他の高分子の反応  (CG03040H) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

引用文献 (10件)：

• 1) K. Maeda, T. Ohfuji, N. Aizaki and E. Hasegawa, Proc. SPIE, 2438, (1995) 465.
• 2) S. C. Palmateer, R. R. Kunz, M. W. Horn, A.R.Forte and M. Rothschild, Proc. SPIE, 2438, (1995) 455.
• 3) M. A. Harteny, R. R. Kunz, L. M. Eriksen and D. C. La Tulipe, Proc. SPIE, 1925, (1993) 270.
• 4) K. H. Baik, L. Vandenhove and B. Roland, J. Vac. Sci. Technol., B9 (1991) 3399.
• 5) H. Oizumi, Y. Yamashita, T. Ogawa, T. Soga and R. Yamanaka, Jpn. J. Appl. Phys., 34 (1995) 6734.

タイトルに関連する用語 (4件)： ARF ,  液相 ,  シリル化 ,  拡散速度