パルスレーザアブレーション成膜法により製作したZrO<sub>2</sub>/Zrけい酸塩/Si MIS構造中のバンドダイアグラムとキャリア伝導メカニズム

YAMAGUCHI T; SATAKE H; FUKUSHIMA N; TORIUMI A

文献

J-GLOBAL ID：200902115206918865 整理番号：01A0601036

パルスレーザアブレーション成膜法により製作したZrO₂/Zrけい酸塩/Si MIS構造中のバンドダイアグラムとキャリア伝導メカニズム

Band Diagram and Carrier Conduction Mechanism in ZrO₂/Zr-silicate/Si MIS Structure Fabricated by Pulsed-laser-abltion Deposition.

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巻： 2000 ページ： 2.1.1-2.1.4 発行年： 2000年
JST資料番号： C0829B ISSN： 0163-1918 資料種別：会議録 (C)
記事区分：短報発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

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