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J-GLOBAL ID：200902115776988492   整理番号：01A1073518

ノルボルナジエン基を保有する高分子膜の大きな光誘起屈折率変化及びサブミクロンスケール屈折率パターニングへのその応用

Large Photoinduced Refractive Index Change of Polymer Films Containing and Bearing Norbornadiene Groups and Its Application to Submicron-Scale Refractive-Index Patterning.

著者 (5件)： KATO Y (Univ. Tokyo, Tokyo, JPN) ,  MUTA H (Univ. Tokyo, Tokyo, JPN) ,  TAKAHASHI S (Univ. Tokyo, Tokyo, JPN) ,  HORIE K (Univ. Tokyo, Tokyo, JPN) ,  NAGAI T (Daikin Ind., Ltd., Ibaraki, JPN)
資料名： Polymer Journal  (Polymer Journal)
巻： 33  号： 11  ページ： 868-873  発行年： 2001年11月15日 
JST資料番号： F0612A  ISSN： 0032-3896  CODEN： POLJB8  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ポリ(2-クロロエチルビニルエーテル)と5-(2-ベンゾフリ...

シソーラス用語： ポリビニルエーテル ,...
準シソーラス用語： 近視野

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分類 (1件)： 高分子固体の物理的性質  (CG02024U)

物質索引 (1件)： 5-[3-(ベンゾフラン-2-イル)-5,6-ビス(トリフルオロメチル)-7,7-ジメチル-2,5-ノルボルナジエン-2-イル]チオフェン-2-カルボン酸

引用文献 (27件)：

• 1) K. K. Chakravorty, Appl. Phys. Lett., 61, 1163 (1992).
• 2) N. Tanio and M. Irie, Jpn. J. Appl. Phys., 33, 3942 (1994).
• 3) T. Kardinahl and H. Franke, Appl. Phys. A: Mater, Sci. Process., 61, 23 (1995).
• 4) S. Xie, A. Natansohn, and P. Rochon, Chem. Mater., 5, 403 (1993).
• 5) S. Morino, S. Machida, T. Yamashita, and K. Horie, J. Phys. Chem., 99, 10280 (1995).

タイトルに関連する用語 (8件)： ノルボルナジエン ,  保有 ,  高分子膜 ,  光誘起 ,  屈折率変化 ,  屈折率 ,  パターニング ,  応用