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J-GLOBAL ID：200902115817355599   整理番号：01A0661932

3次元イオン注入による表面改質 PSII法による表面改質と薄膜形成

著者 (2件)： 馬場恒明 (長崎県工技セ) ,  畑田留理子 (長崎県工技セ)
資料名： 表面技術  (Journal of the Surface Finishing Society of Japan)
巻： 52  号： 6  ページ： 449-452  発行年： 2001年06月01日 
JST資料番号： G0441B  ISSN： 0915-1869  CODEN： HYGIEX  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： プラズマ源としてアンテナ式ICP源を用いたPSII装置及び細...

シソーラス用語： 三次元 ,...
準シソーラス用語： *プラズマプロセシング ,...

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分類 (2件)： 金属の放射線による構造と物性の変化  (BK16122N) ,  その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A)

引用文献 (14件)：

• CONRAD, J. R. J. Appl. Phys. 1987, 62, 4591
• BABA, K. IEEE, 2000 International Conference on Ion Implantation Technology Proceedings
• 馬場恒明. 表面技術協会第103回講演大会講演要旨集. 2001, 242
• BABA, K. Mater. Chem. Phys. 1998, 54, 135
• 馬場恒明. 表面技術. 1998, 49, 177

タイトルに関連する用語 (5件)： 3次元 ,  イオン注入 ,  表面改質 ,  PSII ,  薄膜形成