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J-GLOBAL ID：200902116723490553   整理番号：93A0460120

分子線による真空材料の評価 第1報 気体分子とステンレス表面の干渉

Molecular Beam Study of Materials for Vacuum Technology. 1st Report, Interaction of Gas Molecules with Stainless Steel Surface.

著者 (4件)： 近藤邦和 (静岡理工科大) ,  藤本哲夫 (名古屋大 工) ,  新美智秀 (名古屋大 工) ,  正畠宏祐 (分子科研)
資料名： 日本機械学会論文集 B編  (Transactions of the Japan Society of Mechanical Engineers. Series B)
巻： 59  号： 560  ページ： 1057-1062  発行年： 1993年04月 
JST資料番号： F0036B  ISSN： 0387-5016  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 真空材料であるステンレスの電解複合研磨表面にアルゴンとヘリウ...

シソーラス用語： 希薄気体流 ,...

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分類 (1件)： 希薄気体力学  (BC04000J)

引用文献 (10件)：

• (1) 極高真空•発生•計測利用技術に関する調査報告書,(1988),(株)筑波研究コンソーシアム.
• (2) 本田,機誌,94-867(1991),140.
• (3) Logan, R.M. and Stickney, R.E., J. Chem. Phys., 44 (1966), 195.
• (4) Logan, R.M. and Keck, J.C., J. Chem. Phys., 49 (1968), 860.
• (5) Hirschy, V.L. and Aldridge, J.P., Rev. Sci. Instrum., 42-3 (1971), 381.

タイトルに関連する用語 (6件)： 分子線 ,  真空材料 ,  評価 ,  気体分子 ,  ステンレス ,  干渉