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J-GLOBAL ID：200902116984171749   整理番号：93A0424280

種々のスパッタ圧でのdc反応性マグネトロンスパッタで蒸着した酸化チタン膜

Investigations of titanium oxide films deposited by d.c. reactive magnetron sputtering in different sputtering pressures.

著者 (2件)： MENG L-J (Univ. Minho, Braga, PRT) ,  DOS SANTOS M P (Univ. Minho, Braga, PRT)
資料名： Thin Solid Films  (Thin Solid Films)
巻： 226  号： 1  ページ： 22-29  発行年： 1993年04月15日 
JST資料番号： B0899A  ISSN： 0040-6090  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 標記法により酸化チタン膜をガラス基板に蒸着し,スパッタ圧に対...

シソーラス用語： マグネトロンスパッタリング ,...

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分類 (1件)： 酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (7件)： スパッタ ,  圧 ,  DC ,  反応性 ,  マグネトロンスパッタ ,  蒸着 ,  酸化チタン膜