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J-GLOBAL ID：200902117908456170   整理番号：99A0435963

めっき析出過程の基礎解析 電解槽の電流分布シミュレーション

Fundamental Analyses on Electrochemical Deposition Processes. Computer Simulation of Current Distribution in Electrolytic Cells.

著者 (1件)： 小原勝彦 (上村工業 中研)
資料名： 表面技術  (Journal of the Surface Finishing Society of Japan)
巻： 50  号： 5  ページ： 416-420  発行年： 1999年05月01日 
JST資料番号： G0441B  ISSN： 0915-1869  CODEN： HYGIEX  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 電解槽内の電流分布の基礎方程式の導出を概説した。実際の電極界...

シソーラス用語： 計算機シミュレーション ,...

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分類 (2件)： 電気めっき  (WC08023B) ,  電解装置  (XE02030E)

引用文献 (28件)：

• 日根文男. ウエムラ・テクニカルレポート. 1998, 43, 17
• 小原勝彦. ウエムラ・テクニカルレポート. 1992, 24, 11
• 小原勝彦. ウエムラ・テクニカルレポート. 1992, 26, 5
• 小原勝彦. ウエムラ・テクニカルレポート. 1993, 27, 6
• 小原勝彦. ウエムラ・テクニカルレポート. 1996, 36, 12

タイトルに関連する用語 (8件)： めっき ,  析出 ,  過程 ,  基礎 ,  解析 ,  電解槽 ,  電流分布 ,  シミュレーション