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J-GLOBAL ID：200902118308458434   整理番号：97A0523172

Siウエハ表面の水の吸着挙動のFT-IR-ATR法による研究

FT-IR-ATR study on absorption behavior of water on Si wafer surface.

著者 (5件)： 長田尚理 (広島大 工) ,  福田和明 (広島大 工) ,  坂上弘之 (広島大 工) ,  新宮原正三 (広島大 工) ,  高萩隆行 (広島大 工)
資料名： 応用物理学関係連合講演会講演予稿集  (Extended Abstracts. Spring Meeting. Japan Society of Applied Physics and Related Societies)
巻： 44th  号： 2  ページ： 812  発行年： 1997年03月 
JST資料番号： Y0054A  資料種別： 会議録 (C)
発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

タイトルに関連する用語 (7件)： Siウエハ ,  水 ,  吸着 ,  挙動 ,  Ir ,  ATR法 ,  研究