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J-GLOBAL ID：200902118657034820   整理番号：00A0174726

フォトポリマコーティング層中における増感線量及び増感機構 II

Sensitizer Dyes and Sensitization Mechanisms in Photopolymer Coating Layer II.

著者 (4件)： URANO T (Mitsubishi Chemical Corp., Yokohama, JPN) ,  ISHIKAWA M (Yamagata Univ., Yamagata, JPN) ,  SATO Y (Yamagata Univ., Yamagata, JPN) ,  ITOH H (Yamagata Univ., Yamagata, JPN)
資料名： Journal of Photopolymer Science and Technology  (Journal of Photopolymer Science and Technology)
巻： 12  号： 5  ページ： 711-716  発行年： 1999年 
JST資料番号： L0202A  ISSN： 0914-9244  CODEN： JSTEEW  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： アミノスチリル染料/ラジカル形成剤を組合わせてポリメタクリル...

シソーラス用語： ポリメタクリル酸メチル ,...

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分類 (2件)： 光化学反応  (CB08020F) ,  重合触媒,重合開始剤  (CG04070V)

物質索引 (3件)： 2-メルカプトベンゾチアゾール ,  2-[4-(ジエチルアミノ)スチリル]ナフト[1,2-d]チアゾール ,  2,2′-ビス(2-クロロフェニル)-4,4′,5,5′-テトラフェニル-1,1′-ビ[1H-イミダゾール]

引用文献 (9件)：

• 1). a) T. Urano, H. Nagasaka M. Tsuchiyama and S. Shimizu, Mitsubishi Kasei R and D., 5, 2, 73 (1991), b) T. Urano, H. Nagasaka, M. Tsuchiyama, S. Shimizu, K. kawazoe, M. Shimizu and T. Yamaoka, Bull. Chem. Soc. Jpn., 68, 1661 (1995), c) T. Urano, H. Nagasaka, M. Shimizu, S. Takahara and T. Yamaoka, Bull. Chem. Soc. Jpn., 69, 693 (1996), d) T. Urano, H. Nagasaka, S. Shimizu, H. Ito, M. Shimizu, S. Takahara and T. Yamaoka, Bull. Chem. Soc. Jpn., 70, 1659 (1997), e) H. Itoh, A. Takada, H. Kudo, H. Yokoyama, T. Urano, and H. Nagasaka, Bull. Chem. Soc. Jpn., 70, 221 (1997).
• 2). S. Shimizu, TAGA Proceeding, 232 (1986).
• 3). T. Urano, H. Ito, K. Takahama, and T. Yamaoka, Radtech' 98 Proceeding Chicago, 734 (1998).
• 4). a) H. Nagasaka, T. Urano and M. Tsuchiyama, Mitsubishi Kasei R and D., 6, 1, 52 (1992), b) T. Urano, J. Photopolym. Sci. and Technol., 2, 391 (1999).
• 5). H. Nagasaka, U. S. Patent 4594310; H. Nagasaka and N. Takahashi, U. S. Patent 4985470.

タイトルに関連する用語 (4件)： フォトポリマ ,  コーティング層 ,  増感 ,  線量