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J-GLOBAL ID:200902118918917740   整理番号:02A0753011

ホローカソードプラズマ源によるSiOX成膜

SiOX Thin Film Deposition Using a Hollow Cathode Plasma Source.
著者 (3件):
資料名:
巻: 52  号:ページ: 27-30  発行年: 2002年09月01日 
JST資料番号: F0164A  ISSN: 0373-8868  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
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ホローカソードプラズマ源の原理と特徴を述べ,Siウエハ及びポ...
シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
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分類 (1件):
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薄膜成長技術・装置 
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