文献

J-GLOBAL ID：200902119090966609   整理番号：02A0616915

157/193nmリソグラフィー用のふっ素化重合体 化学,新しいプラットホーム,処方戦略及びリソグラフィー評価

Fluoropolymers for 157/193 nm Lithography: Chemistry, New Platform, Formulation Strategy, and Lithographic Evaluation.

著者 (9件)： ITO H (IBM Almaden Res. Center, CA, USA) ,  TRUONG H D (IBM Almaden Res. Center, CA, USA) ,  OKAZAKI M (IBM Almaden Res. Center, CA, USA) ,  MILLER D C (IBM Almaden Res. Center, CA, USA) ,  FENDER N (IBM Almaden Res. Center, CA, USA) ,  BROCK P J (IBM Almaden Res. Center, CA, USA) ,  WALLRAFF G M (IBM Almaden Res. Center, CA, USA) ,  LARSON C E (IBM Almaden Res. Center, CA, USA) ,  ALLEN R D (IBM Almaden Res. Center, CA, USA)
資料名： Journal of Photopolymer Science and Technology  (Journal of Photopolymer Science and Technology)
巻： 15  号： 4  ページ： 591-602  発行年： 2002年 
JST資料番号： L0202A  ISSN： 0914-9244  CODEN： JSTEEW  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 2-トリフルオロメチルアクリル酸t-ブチル(TBTFMA)と...

シソーラス用語： フッ素化重合体 ,...

   続きはJDreamIII（有料）にて  {{ this.onShowAbsJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=02A0616915&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=L0202A") }}

分類 (2件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  共重合  (CG04030D)

物質索引 (7件)： 2-(トリフルオロメチル)アクリル酸tert-ブチル ,  α,α-ビス(トリフルオロメチル)ビシクロ[2.2.1]ヘプタ-5-エン-2-エタノール ,  エチルビニルエーテル ,  tert-ブチルビニルエーテル ,  5,6-ジヒドロ-4H-ピラン ,  4,5-ジヒドロフラン ,  1,3-ジオキソール-2-オン

引用文献 (19件)：

• 1). R. R. Kunz, T. M. Bloomstein, D. E. Hardy, R. B. Goodman, D. K. Downs, and J. E. Curtin, Proc. SPIE, 3678 (1999) 13.
• 2). a) H. Ito, G. M. Wallraff, P. Brock, N. Fender, H. Truong, G. Breyta, D. C. Miller, M. H. Sherwood, and R. D. Allen, Proc. SPIE, 4345 (2001) 273; b) H. Ito, G. M. Wallraff, N. Fender, P. J. Brock, C. E. Larson, H. D. Truong, G. Breyta, D. C. Miller, M. H. Sherwood, and R. D. Allen, J. Photopolym. Sci. Technol.,14 (2001) 583; c) H. Ito, G. M. Wallraff, N. Fender, P. J. Brock, W. D. Hinsberg, A. Mahorowala, C. E. Larson, H. D. Truong, G. Breyta, and R. D. Allen, J. Vac. Sci. Technol., B19(6) (2001) 2678; d) H. Ito, G. Wallraff, N. Fender, P. Brock, H. Truong, C. Larson, G. Breyta, and B. Allen, Arch Interface '01CD 2001.
• 3). a) T. Chiba, R. J. Hung, S. Yamada, B. Trinque, M. Yamachika, C. Brodsky, K. Paterson, A. V. Heyden, A. Jamison, S.-H. Lin, M. Somervelle, J. Byers, W. Conley, and C. G. Willson, J. Photopolym. Sci. Technol., 13 (2000) 657; b) R. J. Hung, H. V. Tran, B. C. Trinque, T. Chiba, S. Yamada, D. P. Sanders, E. F. Connor, R. H. Grubbs, J. Klopp, J. M. J. Frechet, B. H. Thomas, G. J. Shafer, D. D. DesMarteau, W. Conley, and C. G. Willson, Proc. SPIE, 4345 (2001) 385; c) H. V. Tran, R. J. Hung, T. Chiba, S. Yamada, T. Mrozek, Y.-T. Hsieh, C. R. Chambers, B. P. Osborn, B. C. Trinque, M. J. Pinnow, D. P. Sanders, E. C. Connor, R. H. Grubbs, W. Conley, S. A. MacDonald, and C. G. Willson, J. Photopolym. Sci. Technol.,14 (2001) 669.
• 4). N. Fender, P. J. Brock, W. Chau, S. Bangsaruntip, A. Mahorowala, G. M. Wallraff, W. D. Hinsberg, C. E. Larson, H. Ito, G. Breyta, K. Burnham, H. Truong, P. Lawson, and R. D. Allen, Proc. SPIE, 4345 (2001) 417.
• 5). a) P. R. Kunz, R. F. Sinta, M. Sworin, W. A. Mowers, T. H. Fedynyshyn, V. Liberman, and J. E. Curtin, Proc. SPIE, 4345 (2001) 285; b) T. H. Fedynyshyn, R. R. Kunz, R. F. Sinta, M. Sworin, W. A. Mowers, R. B. Goodman, and S. P. Doran, Proc. SPIE, 4345 (2001) 296.

タイトルに関連する用語 (7件)： リソグラフィー ,  ふっ素化重合体 ,  化学 ,  プラットホーム ,  処方 ,  戦略 ,  評価