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J-GLOBAL ID：200902119651189585   整理番号：97A1002517

eビームリソグラフィーに対するシリコン投影のマスク作製技術

Silicon Projection Mask Making Technology for E-Beam Lithography.

著者 (5件)： AMEMIYA I (HOYA Corp., Yamanashi, JPN) ,  OHHASHI K (HOYA Corp., Yamanashi, JPN) ,  YASUMATSU S (HOYA Corp., Yamanashi, JPN) ,  MATSUI S (HOYA Corp., Yamanashi, JPN) ,  NAGAREKAWA O (HOYA Corp., Yamanashi, JPN)
資料名： Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)
巻： 3096  ページ： 251-259  発行年： 1997年 
JST資料番号： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  資料種別： 会議録 (C)
発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

タイトルに関連する用語 (4件)： シリコン ,  投影 ,  マスク ,  作製技術