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J-GLOBAL ID：200902119653878680   整理番号：93A0781512

Metal Organic Chemical Vapor Deposition of Al and CuAl Alloy Films in a Vertical, High-Speed, Rotating Disk Reactor.

著者 (6件)：
TOMPA G S

TOMPA G S について

(EMCORE Corp., NJ)

EMCORE Corp., NJ について

, 
WOLAK E

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(EMCORE Corp., NJ)

EMCORE Corp., NJ について

, 
STALL R A

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(EMCORE Corp., NJ)

EMCORE Corp., NJ について

, 
GEORGE M A

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(Air Products and Chemicals Inc., PA)

Air Products and Chemicals Inc., PA について

, 
LIPPITT M

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(Harris Corp., FL)

Harris Corp., FL について

, 
NORMAN J A T

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(Schumacher, CA)

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資料名：
Chemical Perspectives of Microelectronic Materials 3  (Chemical Perspectives of Microelectronic Materials 3)

Chemical Perspectives of Microelectronic Materials 3 について


ページ： 323-328  発行年： 1993年 
JST資料番号： K19930443  ISBN： 1-55899-177-8  資料種別： 会議録 (C)
発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)
タイトルに関連する用語 (1件)：
タイトルに関連する用語
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Al

Al について


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