マイクロ波電子サイクロトロン共鳴励起O<sub>2</sub>プラズマ中でのSiの低温酸化

MARTINET C; DEVINE R A B

文献

J-GLOBAL ID：200902119767909402 整理番号：96A0033797

マイクロ波電子サイクロトロン共鳴励起O₂プラズマ中でのSiの低温酸化

Low-temperature oxidation of Si in a microwave electron cyclotron resonance excited O₂ plasma.

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巻： 67 号： 23 ページ： 3500-3502 発行年： 1995年12月04日
JST資料番号： H0613A ISSN： 0003-6951 CODEN： APPLAB 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：短報発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

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固体デバイス製造技術一般 , 半導体薄膜

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マイクロ波電子サイクロトロン共鳴励起O2プラズマ中でのSiの低温酸化

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