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J-GLOBAL ID：200902119866942284   整理番号：99A0772548

テトラフルオロエチレン/ヘキサメチルジシロキサンのプラズマ共重合とその気相のその場Fourier変換赤外分光

Plasma Copolymerization of Tetrafluoroethylene/Hexamethyldisiloxane and In Situ Fourier Taansform Infrared Spectroscopy of Its Gas Phase.

著者 (5件)： SHIRAFUJI T (Kyoto Inst. Technol., Kyoto, JPN) ,  MIYAZAKI Y (Kyoto Inst. Technol., Kyoto, JPN) ,  NAKAGAMI Y (Kyoto Inst. Technol., Kyoto, JPN) ,  HAYASHI Y (Kyoto Inst. Technol., Kyoto, JPN) ,  NISHINO S (Kyoto Inst. Technol., Kyoto, JPN)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻： 38  号： 7B  ページ： 4520-4526  発行年： 1999年07月30日 
JST資料番号： G0520B  ISSN： 0021-4922  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 低誘電率金属間誘電体への応用のために,ヘキサメチルジシロキサ...

シソーラス用語： *プラズマ重合 ,...

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分類 (1件)： 有機化合物の薄膜  (BK14070L)

物質索引 (2件)： テトラフルオロエチレン ,  1,1,1,3,3,3-ヘキサメチルプロパンジシロキサン

引用文献 (30件)：

• (1) W.W.Lee and P.S.Ho: MRS Bull. 22 (1997) No.10, 19.
• (2) N.H.Hendricks: Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 443 (1997) 3.
• (3) C.-I.Lang, G.-R.Yang, J.A.Moore and T.-M.Lu: Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 381 (1995) 45.
• (4) K.Endo and T.Tatsumi: J. Appl. Phys. 78 (1995) 1370.
• (5) T.W.Mountsier and D.Kumar: Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 443 (1997) 41.

タイトルに関連する用語 (6件)： テトラフルオロエチレン ,  ヘキサメチルジシロキサン ,  プラズマ ,  共重合 ,  気相 ,  Fourier変換赤外分光